C114訊 11月10日消息（林想）本周，以“象由芯生·科技服務人民”為主題的2020紫光展銳市場峰會重磅開啟，廣大生態合作伙伴共聚一堂，共話數字世界新未來。
在今天舉辦的“多媒體技術研討會”上，來自紫光展銳產業鏈的合作伙伴將分享有關多媒體發展趨勢、圖像優化，手機拍照、AI與多媒體技術融合方面的最新技術及應用。
研討會上，紫光展銳葉順舟做了智能音頻——TWS降噪技術探討的演講。葉順舟表示，紫光展銳將在ANC和ENC技術方向上持續發力，推動產業發展。智能音頻，無限未來；展銳之聲，與你共鳴。
.jpg)
目前，ANC主動降噪普及度遠遠沒有達到業界預期，為了讓ANC飛入尋常百姓家，紫光展銳在芯片集成前饋A（z）、反饋C（z）系數自適應算法，穩定性高，擁有核心專利；產線校準開啟自適應模式，得到單體最優系數，提高一致性容忍度，良率提升，成本降低，下游客戶與消費者獲利。
紫光展銳的ANC自適應校準流程，整個過程與設備儀表配合，一鍵完成，無需人為參與；濾波器收斂可靠時間15~30s，步驟2、3實驗可簡化，過程更高效；針對不同場景的降噪需求，可在測試環境中播放不同的場景噪聲，得到各場景下的最優系數并存儲。
紫光展銳在ANC行業缺陷改進探索方面，三方發力：風噪爆破音前饋通道引入，通過耳內/外麥克信號統計特性進行風噪檢測，控制前饋增益；咀嚼爆破音反饋通道引入，通過耳內/外麥克信號強度進行自體振動檢測，控制反饋增益；底噪增大ADC通道主要貢獻，提高ADC量化精度，提高SNR（伴隨功耗提升），增加安靜模式檢測，控制ADC增益。
ANC解決自己聽的問題，ENC則解決對方聽的問題。紫光展銳ENC技術自適應beamforming定向拾音技術，三級降噪設計，對不同噪聲分類處理，解決mic數量、尺寸限制下的指向性問題。在指向性可針對應用需求在+/-30度范圍內調整；支持1.5-3cm麥克間距設計；并單獨針對風噪統計特性，設計了基于雙麥的風噪抑制算法。
此外，葉順舟強調，目前ENC融合新技術呈現四大發展趨勢值得關注：Beamforming存在mic間距要求，適用于桿式耳機，豆式結構難以應用，其次強風噪，極低SNR下性能有限；AI降噪在單麥產品有廣泛的應用前景，對如風噪的特定噪聲處理效果理想，但NN模型的小資源需求（100KB以內）與其泛化性能存在矛盾；耳內三麥與ANC系統完全復用麥克，解決強風噪與配戴角度問題，但信號融合帶來的不自然感丞待解決，且依賴入耳式設計；骨傳導與耳內三麥原理類似，信號更穩定，可應用于半入耳式設計，缺點是成本過高，且同樣面臨信號整合問題。 
